應(yīng)用領(lǐng)域
磁濺射鍍膜機(jī)是一種普適鍍膜機(jī),用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系。
可鍍各種硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜和其他化學(xué)反應(yīng)膜,亦可鍍鐵磁材料。
主要用于實(shí)驗(yàn)室制備有機(jī)光電器件的金屬電極及介電層,以及制備用于生長納米材料的催化劑薄膜層。
技術(shù)參數(shù)
1.極限真空壓力:9×10-5Pa
2.靶直徑(mm):50
3.靶單位面積功率(W/cm2):20
4.靶電源功率(W):DC1000;RF500
5.基片加熱溫度:室溫-500℃ 可控
6.恢復(fù)真空抽氣時間(min):<30
7.基片沉積速率(nm/s):3
8.氣體流量:0-200slm
9.電壓(KV):0-35可調(diào)
10.束流(NA):≤100
11.掃描面積(mm2):120×120
12.束斑尺寸(mm):2-10