真空式等離子處理系統(tǒng)CRF-VPO-MC-6L
名稱（Name）
真空式等離子處理系統(tǒng)
型號（Model）
CRF-VPO-MC-6L
控制系統(tǒng)（Control system）
PLC+觸摸屏
電源（Power supply）
380V/AC,50/60Hz,12.5kw
中頻電源功率（MF Power）
2000W/40kHz
容量（Volume）
235L（Option）
層數(shù)（Electrode of plies）
6（Option）
有效處理面積（Area）
500（L）*500（W）（Option）
氣體通道（Gas）
兩路工作氣體可選： Ar、N2、CF4、O2
產(chǎn)品特點(diǎn)：處理空間大，提升處理產(chǎn)能，采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，有效控制設(shè)備運(yùn)行。
可按照客戶要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù)，滿足客戶的需求。
保養(yǎng)維修成本低，便于客戶成本控制。
高精度，快響應(yīng)，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業(yè)的技術(shù)支持。
應(yīng)用范圍：主要適用于生物醫(yī)療行業(yè)，印制線路板行業(yè)，半導(dǎo)體IC領(lǐng)域，硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域，汽車電子行業(yè)，航空工業(yè)等。
真空等離子清洗機(jī)擁有諸多優(yōu)勢廣泛應(yīng)用于表面去污及等離子刻蝕
真空等離子清洗機(jī)由真空發(fā)生系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、等離子發(fā)生器、真空腔體及相關(guān)機(jī)械等幾個部分構(gòu)成。應(yīng)用時(shí)可以根據(jù)客戶的要求定制符合客戶需要的真空等離子清洗機(jī)。
真空等離子清洗機(jī)有著眾多優(yōu)點(diǎn)：
1、選用數(shù)控加工技術(shù)智能化程度高；
2、具備高精密的操縱設(shè)備，時(shí)間控制精度高；
3、合理的等離子體清理不容易在表層產(chǎn)生損害層，工藝性能得到保證；
4、清理工作中在真空中進(jìn)行，清理流程環(huán)保安(全)，不容易造成環(huán)境污染，且合理保證清理表層不容易被二次污染。
真空等離子清洗機(jī)利用兩個電極形成電磁場，用真空泵實(shí)現(xiàn)有效的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子之間的間距及分子或離子的自由運(yùn)動的距離也越來越長，受磁場作用發(fā)生碰撞而形成等離子體并產(chǎn)生輝光。等離子體在電磁場內(nèi)的空間運(yùn)動，并不斷轟擊被處理物體表面，去除表面油污以及表面氧化物、灰化表面有(機(jī))物以及其它化學(xué)物質(zhì)，以此達(dá)到表面處理清洗和刻蝕的效(果)。
真空離子清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于表面去污及等離子刻蝕，聚四氟（PTFE）及聚四氟混合物的刻蝕、塑料、玻璃、陶瓷的表面(活)化和清洗、等離子涂鍍聚合等工序，因此廣泛應(yīng)用于汽車領(lǐng)域、電子領(lǐng)域、電子領(lǐng)域、PCB制成行業(yè)等高精密度領(lǐng)域。
真空等離子清洗機(jī)整個清洗過程大致如下：
1、首先將被清洗的工件送入真空機(jī)并加以固定，啟動運(yùn)行裝置開始排氣，讓真空腔內(nèi)的真空程度達(dá)到10Pa左右的標(biāo)準(zhǔn)真空度。一般排氣時(shí)間大約需要幾分鐘。
2、然后向真空室內(nèi)引入等離子清洗用的氣體，并保持腔內(nèi)壓強(qiáng)穩(wěn)定。根據(jù)清洗材料的不同，可分別使用氧氣、氬氣、氫氣、氮?dú)?、四氟化碳等氣體。
3、在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，使氣體被擊穿并通過輝光放電而發(fā)生等離子化和產(chǎn)生等離子體，讓在真空腔內(nèi)產(chǎn)生的等離子體籠罩住被處理的工件并開始清洗作業(yè)，一般清洗處理持續(xù)幾十秒到幾十(分)鐘不等，根據(jù)處理材質(zhì)的不同而定。
4、清洗完畢后切斷電源，并通過真空泵將氣體和氣化的污垢抽走排出，清洗結(jié)束。
真空等離子清洗機(jī)擁有諸多優(yōu)勢：如采用數(shù)控技術(shù)自動化程度高；具有高精度的控制裝置，時(shí)間控制精度高；正確的等離子體清洗不會在表面產(chǎn)生損傷層，表面質(zhì)量得以保證；清洗工作在真空環(huán)境中進(jìn)行，清洗過程環(huán)保(安)全，不會污染環(huán)境，且有效保證清洗表面不會被二次污染。
