真空式等離子處理系統(tǒng)CRF-VPO-8L-S
名稱（Name）
真空式等離子處理系統(tǒng)
型號（Model）
CRF-VPO-8L-S
控制系統(tǒng)（Control system）
PLC+觸摸屏
電源（Power supply）
380V/AC,50/60Hz,3kw
中頻電源功率（MF Power）
600W/13.56MHz
容量（Volume）
80L（Option）
層數(shù)（Electrode of plies）
8（Option）
有效處理面積（Area）
400（L）*300（W）（Option）
氣體通道（Gas）
兩路工作氣體可選： Ar、N2、CF4、O2
產(chǎn)品特點：超大處理空間，提升處理產(chǎn)能，采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，有效控制設(shè)備運行。
可按照客戶要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù)，滿足客戶的需求。
保養(yǎng)維修成本低，便于客戶成本控制。
高精度，快響應(yīng)，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業(yè)的技術(shù)支持。
應(yīng)用范圍：主要適用于生物醫(yī)療行業(yè)，印制線路板行業(yè)，半導(dǎo)體IC領(lǐng)域，硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域，汽車電子行業(yè)，航空工業(yè)等。
小型等離子清洗機比超聲波更環(huán)保
小型等離子清洗機也叫常壓（大氣）等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔等目的。
常壓等離子清洗機可選配多種類型噴嘴，使用于不同場合，滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境；設(shè)備尺寸小巧，方便攜帶和移動，節(jié)省使用空間；可In-Line式安裝于設(shè)備產(chǎn)線中，減少投入成本；使用壽命長，保養(yǎng)維修成本低等優(yōu)點。
小型等離子清洗機廣泛應(yīng)用于：
1．等離子表面活化/清洗；2.等離子處理后粘合；3. 等離子蝕刻/活化；4. 等離子去膠；5.等離子涂鍍(親水,疏水)；6.增強邦定性；7.等離子涂覆； 8.等離子灰化和表面改性等場合。
小型等離子清洗機比超聲波更環(huán)保更高等級的清洗機（處理機），不需要清洗劑，對環(huán)境沒有任何污染，使用成本低廉，能提高產(chǎn)品檔次，提高產(chǎn)品質(zhì)量，解決行業(yè)技術(shù)難題。刷電路板行業(yè)等離子清洗機等離子清洗機利用活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面的
等離子清洗機是利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效(果)，是一種全新的高科技技術(shù)。等離子清洗機具備低溫清洗的優(yōu)勢，滿足不同場合溫度要求，不會對清洗的產(chǎn)品造成溫度影響。等離子清洗機清洗的原理主要是通過附著力、(活)化、清潔三步驟來完成的。附著力是指提高物品表面的附著力，提高表面粘接的可靠性；活(化)是通過大幅度提高表面的浸潤性能，形成活性的表面；清潔主要是去除微笑塵埃，激(活)鍵能，精細清洗。等離子清洗在手機蓋板應(yīng)用(十)分廣泛，手機蓋板、手機玻璃、鋼化膜等噴涂前需要采用等離子清洗，增加產(chǎn)品表面潔凈度，可以明(顯)提高表面的活性，從而增強附著效(果)。
等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔等目的。等離子體和固體、液體或氣體一樣，是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的"活性"組分包括：離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。
等離子清洗機的清洗原理是等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在，如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì)：處于高速運動狀態(tài)的電子;處于激(活)狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(自由基);離子化的原子、分子;未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。等離子清洗機的機理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活(化)作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。
用；醫(yī)療診斷行業(yè)等離子清洗機應(yīng)用：科研行業(yè)等離子清洗機應(yīng)用：彈性體行業(yè)等離子清洗機應(yīng)用，光學(xué)行業(yè)等離子清洗機應(yīng)用：包裝行業(yè)；汽車制造；納米技術(shù)；精密儀器等。
深圳市誠峰智造有限公司是一家專業(yè)致力于提供等離子設(shè)備及工藝流程解決方案的。中國香港、中國臺灣、深圳、蘇州、天津、成都、昆山、珠海設(shè)立八大銷售及客戶中心，銷售及客戶網(wǎng)絡(luò)遍布，擁有國內(nèi)外銷售及客服團隊。源于美國&德國30年plasma生產(chǎn)制造及研發(fā)技術(shù)，公司全資擁有CRF品牌下等離子設(shè)備的研發(fā)，生產(chǎn)，制造技術(shù)，電子工業(yè)設(shè)備、工業(yè)自動化設(shè)備、研磨拋光設(shè)備、低溫等離子體處理設(shè)備、等離子滅菌設(shè)備、等離子凈化設(shè)備、等離子美容設(shè)備、電源及相關(guān)配套設(shè)備的生產(chǎn)，設(shè)備范圍涵蓋半導(dǎo)體，光伏光電，太陽能，PCB&FPCB等行業(yè)。
