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純水處理設(shè)備在光電光學(xué)中的應(yīng)用

2025年05月26日 09:14東莞市綠健水處理設(shè)備有限公司點(diǎn)擊量：20

 隨著現(xiàn)代工業(yè)的高速發(fā)展，光電光學(xué)行業(yè)對(duì)于產(chǎn)品的質(zhì)量也在不斷提高，就清洗的水來說，為何不直接使用自來水，而還要花高價(jià)購買純水設(shè)備呢，其實(shí)由于自來水或其它水源含一些雜質(zhì)、離子、細(xì)菌之類的對(duì)光電光學(xué)行業(yè)非常嚴(yán)重的影響。
 清洗是指清除工件表面上液體和固體的污染物，使工件表面達(dá)到一定的潔凈程度。清洗過程是清洗介質(zhì)、污染物、工件表面三者之間相互作用，是一種復(fù)雜的物理過程，清洗不僅與污染的性質(zhì)、種類、型態(tài)以及粘附程度有關(guān)。與清洗介質(zhì)的理化性質(zhì)、清洗性能、工件的材質(zhì)、表面狀態(tài)有關(guān)、還與清洗的條件如溫度、壓力以及附加的超聲振動(dòng)、機(jī)械振動(dòng)等因素有關(guān)。

、  傳統(tǒng)的清洗方式有浸式清洗、噴氣清洗、噴流清洗、刷洗、噴淋清洗、噴霧清洗、減壓清洗及高壓水射流清洗等，而超聲波純水清洗是目前國際社會(huì)的的清洗方式。清洗需用純水，如水中含有氯離子，電容器就會(huì)漏電。在晶體管、集成電路生產(chǎn)中，純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設(shè)備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大。水中的堿金屬（K、Na等）會(huì)使絕緣膜耐壓不良，重金屬（Au、Ag、Cu等）會(huì)使PN結(jié)耐壓降低，Ⅲ族元素（B、Al、Ga等）會(huì)使N型半導(dǎo)體特性惡化，V族元素（P、As、Sb等）會(huì)使P型半導(dǎo)體特性惡化，水中細(xì)菌高溫碳化后的磷（約占灰分的20-50%）會(huì)使P型硅片上的局部區(qū)域變化為N型硅而導(dǎo)致器件性能變壞，水中的顆粒（包括細(xì)菌）如吸咐在硅片表面，就會(huì)引起電路短路或特性變差。在電子管生產(chǎn)中，電子管陰極涂甫碳酸鹽，如其中混入雜質(zhì)，就會(huì)影響電子的發(fā)射，進(jìn)而影響電子管的放大性能及壽命，因此其配液要使用純水，在顯象管和陰極射線管生產(chǎn)中，其熒光屏內(nèi)壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質(zhì)，是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成，其配制需用純水，如純水中含銅在8ppb以上，就會(huì)引起發(fā)光變色；含鐵在50ppb以上就會(huì)使發(fā)光變色、變暗、閃光跳躍；含其它有機(jī)物膠體、微粒、細(xì)菌等，就會(huì)降低熒光層強(qiáng)度及其與玻殼的粘附力，并會(huì)造成氣泡、條跡、漏光點(diǎn)等廢次品。

 在黑白顯象管熒光屏生產(chǎn)的12個(gè)工序中，玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個(gè)工序需使用純水，每生產(chǎn)一個(gè)晶體管需用純水80kg。液晶顯示器的屏面需有純水清洗和用純水配液，如純水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質(zhì)，就會(huì)使液晶顯示電路發(fā)生故障，影響液晶屏質(zhì)量，導(dǎo)致廢、次品。

 隨著純水、超純水在光電光學(xué)領(lǐng)域中的重要作用日益突出，純水水質(zhì)已成為影響光電光學(xué)器件產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)成品率及生產(chǎn)成本的重要因素之一，水質(zhì)要求也越來越高。在生產(chǎn)中，高純水主要用作純水清洗和純水配液，不同的工藝生產(chǎn)中純水的用途及對(duì)水質(zhì)的要求也不同。


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