5微米厚度的閃爍晶體Crytur

2025年05月21日 16:20赫爾納貿(mào)易（大連）有限公司點(diǎn)擊量：10

5微米厚度的閃爍晶體Crytur

Crytur是遵循傳統(tǒng)的晶體生長(zhǎng)和加工技術(shù)的工廠，有超過(guò)75年的晶體生長(zhǎng)和加工。我們對(duì) Czochralski晶體生長(zhǎng)工藝，以經(jīng)濟(jì)高效的體積提供最佳可用材料為了提供閃爍體，這是許多科學(xué)和先進(jìn)技術(shù)項(xiàng)目的核心從高能物理到地質(zhì)調(diào)查。采用自主研發(fā)的直拉法晶體生長(zhǎng)工藝，以成本效益高的方式提供最佳材料，以生產(chǎn)閃爍體，它們是許多科學(xué)和高級(jí)技術(shù)項(xiàng)目的核心，涵蓋從高能物理到地質(zhì)調(diào)查等多個(gè)領(lǐng)域。晶體生長(zhǎng)與全流程內(nèi)部控制精密加工無(wú)塵室組裝全制造過(guò)程的嚴(yán)格質(zhì)量控制

閃爍晶體加工成薄平板作為具有高空間分辨率的優(yōu)秀成像屏幕。非凡的閃爍特性，高光學(xué) 均勻性、的表面平整度和高電阻影響成品質(zhì)量的關(guān)鍵因素射線照相或其他類(lèi)型的讀數(shù)。 Crytur的成像屏幕可以對(duì)電子束，質(zhì)子束、低能X射線、紫外線、真空紫外以及XUV輻射。高光學(xué)質(zhì)量（S/D 0/0）光學(xué)均勻性高（>95%）精確的面部平行度優(yōu)異的抗輻射性耐化學(xué)性、機(jī)械性、耐溫性

應(yīng)用程序最大發(fā)射波長(zhǎng)550 nm 535 nm 370 nm 衰變常數(shù)70 ns 70 ns 25 ns 300 K（27°C）下的光子產(chǎn)額35 x 103 Ph/MeV 25 x 103 Ph/MeV 25 x 103 Ph/MeV YAP:Ce YAG:Ce LuAG:Ce 用于成像屏幕的標(biāo)準(zhǔn)閃爍材料包括YAG:Ce，魯：鈰，亞普：鈰。石榴石材料-YAG:Ce和LuAG:Ce- 為低能量成像提供了優(yōu)異的性能

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