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詳細(xì)摘要： 微波等離子清洗機(jī)具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
產(chǎn)品型號：所在地：上海市更新時間：2024-05-16 在線留言
詳細(xì)摘要： 掩模板清洗機(jī)具備對點(diǎn)試劑滴膠系統(tǒng)，可以zui大程度節(jié)省化學(xué)試劑的用量的。滴膠系統(tǒng)支持可編程的化學(xué)試劑混合能力，提供了可控的化學(xué)試劑在整個基片上的分布。
產(chǎn)品型號：所在地：上海市更新時間：2024-05-16 在線留言
詳細(xì)摘要： 單片晶圓清洗機(jī)是一款帶有小占地面積的理想設(shè)備，并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設(shè)備都具有出眾的清洗能力，并可用于非常廣泛的基片。
產(chǎn)品型號：所在地：上海市更新時間：2024-05-16 在線留言
詳細(xì)摘要： AL76微波等離子清洗機(jī)適用于批量生產(chǎn)，也可以i滿足研發(fā)及實(shí)驗室應(yīng)用。并且，此系統(tǒng)可以滿足360度的芯片封裝需要、工業(yè)、醫(yī)藥等領(lǐng)域。
產(chǎn)品型號：所在地：上海市更新時間：2024-05-16 在線留言
詳細(xì)摘要： SWC-4000兆聲掩模板清洗機(jī)的工藝處理時間可以在3-5分鐘內(nèi)完成，具體是3分鐘還是5分鐘取決于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情況。
產(chǎn)品型號：SWC-4000所在地：上海市更新時間：2024-05-16 在線留言
詳細(xì)摘要： SWC-4000兆聲晶圓清洗機(jī)從基片表面被去除。如果沒有使用幅流DI水的優(yōu)勢，的靜態(tài)可循環(huán)兆聲清洗槽會有更大數(shù)量的顆粒回附，并且因此需要更多的去除這些顆粒。
產(chǎn)品型號：SWC-4000所在地：上海市更新時間：2024-05-15 在線留言
詳細(xì)摘要： 硅片清洗機(jī)支持12"直徑的圓片或9"x9"方片，無損兆聲,試劑，毛刷清洗及旋轉(zhuǎn)甩干。
產(chǎn)品型號：所在地：上海市更新時間：2024-05-15 在線留言
詳細(xì)摘要： AL76C立式微波等離子清洗機(jī)可以滿足360度的芯片封裝需要、工業(yè)、醫(yī)藥等領(lǐng)域。AL76C系統(tǒng)是一款創(chuàng)新型的通用設(shè)備，可選配旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤，及ECR（電子回旋共振）裝...
產(chǎn)品型號：AL76C所在地：上海市更新時間：2024-05-15 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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