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通派(上海)生物科技有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第13年

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ATCC細(xì)胞
SK-MEL-1細(xì)胞 SKLU1細(xì)胞 SKHEP1細(xì)胞 SKBR3細(xì)胞 SiHa細(xì)胞 SH-SY5Y細(xì)胞 SCaBER細(xì)胞 Saos-2細(xì)胞 RPMI 8226細(xì)胞 RL95-2細(xì)胞 RKO細(xì)胞 Reh細(xì)胞 RD細(xì)胞 Ramos細(xì)胞 Raji細(xì)胞 QSG-7701細(xì)胞 QGY-7703細(xì)胞 QGY-7701細(xì)胞 PLC/PRF/5細(xì)胞 PC-3細(xì)胞 PANC-1細(xì)胞 PA-1細(xì)胞 OVCAR-3細(xì)胞 OS-RC-2細(xì)胞 NTERA-2細(xì)胞 NCI-N87細(xì)胞 NCI-H838細(xì)胞 NCI-H661細(xì)胞 NCI-H596細(xì)胞 NCI-H520細(xì)胞 NCI-H460細(xì)胞 NCI-H446細(xì)胞 NCI-H358細(xì)胞 NCI-H295R細(xì)胞 NCI-H292細(xì)胞 NCI-H23細(xì)胞 NCI-H209細(xì)胞 NCI-H2087細(xì)胞 NCI-H1975細(xì)胞 NCI-H1650細(xì)胞 NCI-H1688細(xì)胞 NCI-H157細(xì)胞 NCI-H1395細(xì)胞 NCI-H1299細(xì)胞 KLE細(xì)胞 LNCaP細(xì)胞 LoVo細(xì)胞 LS180細(xì)胞 LS174T細(xì)胞 MCF 10A細(xì)胞 MCF7細(xì)胞 MEG-01細(xì)胞 MG-63細(xì)胞 MRC-5細(xì)胞 NAMALWA細(xì)胞
細(xì)胞
細(xì)胞培養(yǎng)
復(fù)蘇細(xì)胞
傳代細(xì)胞
小鼠細(xì)胞
大鼠細(xì)胞
293T細(xì)胞株
TF-1細(xì)胞
Hela細(xì)胞株
胚胎成纖維細(xì)胞

BCECs細(xì)胞 鼠腦微血管內(nèi)皮細(xì)胞

時(shí)間:2024/12/10閱讀:111
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細(xì)胞:BCECs細(xì)胞

中文名稱:鼠腦微血管內(nèi)皮細(xì)胞  

生長特性:貼壁細(xì)胞

培養(yǎng)基:DMEM-H +10%FBS(GIBCO胎牛血清)

凍存條件:50%基礎(chǔ)培養(yǎng)基、40% FBS、10% DMSO

細(xì)胞常規(guī)培養(yǎng)傳代流程( 請(qǐng)嚴(yán)格遵照無菌操作)

1. 吸出原培養(yǎng)瓶中的培養(yǎng)基,PBS 緩沖液潤洗細(xì)胞兩次,加 2-3 ml 0.25% yi酶進(jìn)行消化細(xì)胞(注意把握消化時(shí)間,通??刂圃?1-2min)

2. 鏡下觀察消化情況,在細(xì)胞邊緣縮小,貼壁松動(dòng)時(shí)(不建議消化到細(xì)胞漂?。┤サ魕i酶,加 6~8ml 培養(yǎng)基,輕輕吹打細(xì)胞層,盡量把細(xì)胞層吹落,吹散。

3. 取部分細(xì)胞懸液轉(zhuǎn)移到新的培養(yǎng)皿/瓶中,添加適當(dāng)?shù)呐囵B(yǎng)基,把細(xì)胞懸液打勻,于培養(yǎng)箱中培養(yǎng)。

4. 注意培養(yǎng)基 PH 值變化情況,定期換液(每周 2-3 次),待細(xì)胞密度達(dá)到 80%以后重復(fù) 1 項(xiàng)操作或凍存。

(網(wǎng)絡(luò)信息主針對(duì)網(wǎng)絡(luò)推廣作用,僅供參考,細(xì)胞培養(yǎng)請(qǐng)咨詢細(xì)胞庫管理員,以細(xì)胞庫管理員提供給您的信息為準(zhǔn),操作前,如果有不明白之處,先咨詢細(xì)胞庫管理員,避免不必要的損失;)


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在III-V族半導(dǎo)體中,InSb化合物具有最窄禁帶寬度、高電子遷移率、最小有效質(zhì)量和最大g因子,是制備高速低功耗電子器件、紅外光電子器件及進(jìn)行自旋電子學(xué)研究與拓?fù)淞孔佑?jì)算等前沿物理探索的理想材料。(人Calu-6細(xì)胞 來源:通派細(xì)胞庫 人退行性肺癌細(xì)胞)

由于InSb具有晶格常數(shù)大以及固有的n型導(dǎo)電性特征,難以找到合適襯底外延生長,通常人們采用緩沖層技術(shù)。(人kyse30細(xì)胞 來源:通派細(xì)胞庫 人食管癌細(xì)胞)

然而,晶格失配引起的位錯(cuò)缺陷會(huì)沿著緩沖層向上延伸,甚至延伸至緩沖層表面,使得緩沖層表面不能形成的晶格結(jié)構(gòu),從而影響外延的InSb薄膜晶體質(zhì)量。半個(gè)多世紀(jì)以來,高質(zhì)量InSb材料制備一直是困擾研究人員們的難題。(人KYSE-510細(xì)胞 來源:通派細(xì)胞庫 人食管癌細(xì)胞)

利用分子束外延技術(shù),在Si襯底上生長出高質(zhì)量純相InAs納米線,然后通過控制生長溫度和束流比,創(chuàng)造性地在一維InAs納米線上生長出了二維高質(zhì)量InSb納米片。(人kyse410細(xì)胞 來源:通派細(xì)胞庫 人食管癌細(xì)胞)

這種免緩沖層技術(shù)制備出來的立式InSb納米片為純閃鋅礦單晶,結(jié)構(gòu)中觀察不到層錯(cuò)及孿晶等缺陷。(人BXPC-3-RFP細(xì)胞 來源:通派細(xì)胞庫 人原位胰腺癌細(xì)胞)

其長度和寬度達(dá)到微米量級(jí)(大于10微米)、厚度可薄至10納米。將這種高質(zhì)量的二維InSb納米片制成了場效應(yīng)器件,器件具有明顯的雙極性特征,低溫下場效應(yīng)遷移率近20000 cm2 V-1 s-1。


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