PE100RIE等離子刻蝕系統(tǒng)
特點：
等離子刻蝕，是干法刻蝕中見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。某種程度來講，等離子清洗實質上是等離子體刻蝕的一種較輕微的情況。進行干式蝕刻工藝的設備包括反應室、電源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反應室，氣體被導入并與等離子體進行交換，等離子體在工件表面發(fā)生反應，反應的揮發(fā)性副產(chǎn)物被真空泵抽走。等離子體刻蝕工藝實際上便是一種反應性等離子工藝。近期的發(fā)展是在反應室的內(nèi)部安裝成擱架形式，這種設計的是富有彈性的，用戶可以移去架子來配置合適的等離子體的蝕刻方法：反應性等離子體（RIE），順流等離子體（downstream），直接等離子體（directionplasma）。
PE公司為幾乎所有的等離子處理應用提供了的設備，我們很自豪地說，我們的等離子蝕刻系統(tǒng)在各個行業(yè)應用中表現(xiàn)優(yōu)異。我們在控制離子密度，電子溫度，和等離子體電位等核心技術上擁有豐富的實際經(jīng)驗，通過幾個擁有的關鍵技術，可以保證獲得非常均勻的等離子體蝕刻的效果。
我們的系統(tǒng)是以一個高強度真空室為基礎，真空室內(nèi)的電極可對幾乎所有的材料進行處理，并屏蔽真空室內(nèi)的靜電以保護樣品。空氣或氣體通過控制閥進入室內(nèi)，與樣品進行反應，所產(chǎn)生的廢氣通過真空泵迅速抽離。所使用的氣體的類型取決于蝕刻工藝。四氟化碳（CF4）和氧氣是常用的氣體腐蝕。
等離子體應用強大的RF（射頻）系統(tǒng)產(chǎn)生13.56MHz電極的電磁場。通過射頻發(fā)生器產(chǎn)生的振蕩的電場和電離作用，氣體分子獲得剝離的電子。正離子因為電壓差會移向樣品，然后與被蝕刻的樣品碰撞，并與有機材料在樣品表面化學反應。離子還可以通過轉移它們的動能來去除某些物質。電子以震蕩的形式在真空室內(nèi)運動，多余的電子會被室壁吸收，因為是室壁是接地的，所以他們能被安全的導出設備。
等離子體處理可應用于所有的基材，甚至復雜的幾何構形都可以進行等離子體活化和清洗。等離子體處理時的熱負荷及機械負荷都很低，因此，低壓等離子體也能處理敏感性材料。
