全自動On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-500W-XN

名稱（Name）

全自動On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)

型號（Model）

CRF-APO-500W-XN

電源（Power supply）

380V/AC,50/60Hz

等離子功率（Plasma power）

10KW（Max）/40KHz（Option）

有效處理寬幅（Processing width）

120mm-1200mm（Option）

有效處理高度（Processing   height）

3mm~8mm（Max）

處理速度（Processing speed）

0-8m/min

工作氣體（Gas）

N2/N2+CDA

產(chǎn)品特點： 內(nèi)置式冷卻系統(tǒng)，提高和保證設(shè)備的使用壽命和性能；

靈活On-Line安裝方式，電子和離子的能量可達10eV以上，

材料批處理的效率可高于低氣壓輝光放電裝置效率10倍以上。

應(yīng)用范圍：應(yīng)用于FPC＆PCB表面處理，復合型材料，玻璃，ITO等行業(yè)領(lǐng)域的表面處理。

真空腔體里,射頻電源在一定的壓力情況下起輝能產(chǎn)生高能量

真空等離子清洗原理:
等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在，如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì)：處于高速運動狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團（自由基）；離子化的原子、分子；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。 
在真空腔體里，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面．以達到清洗目的。  
真空等離子清洗的優(yōu)勢 :
等離子清洗作為重要的材料表面改性方法，已經(jīng)在眾多領(lǐng)域廣泛使用。 
1）處理溫度低，處理溫度低至80℃、50℃以下，以確保對樣品表面不造成熱影響。 
2）由于是在真空中進行，不污染環(huán)境，保證清洗表面不被二次污染，所以處理全程無污染，與原有生產(chǎn)流水線搭配，實現(xiàn)全自動在線生產(chǎn)，節(jié)約人力成本。 
3）等離子清洗使得用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷害，同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題。 
4）使用等離子清洗，可以使得清洗效率獲得極大的提高。整個清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成，因此具有產(chǎn)率高的特點。 
5）等離子體清洗可以不分處理對象，它可以處理各種各樣的材質(zhì)，無論是金屬、半導體、氧化物，還是高分子材料（如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等高聚物）都可以使用等離子體來處理。因此特別適合于不耐熱以及不耐溶劑的材質(zhì)。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復雜結(jié)構(gòu)進行部分清洗。 
6）使用等離子清洗，避免了對清洗液的運輸、存儲、排放等處理措施，所以生產(chǎn)場地很容易保持清潔衛(wèi)生。