UV-F總結(jié)現(xiàn)實(shí)辦案現(xiàn)場(chǎng)中集中出現(xiàn)的多種疑難足跡情況——諸如被背景圖案淹沒的足跡，高反射表面的足跡，以及很多看得見卻拍不好的足跡等，創(chuàng)新設(shè)計(jì)了“傾斜成像加激光矯正（IILC）”的*掃描技術(shù)，使得大部分常見疑難足跡都能得以清晰呈現(xiàn)。
主要特點(diǎn)：
疑難足跡的提?。焊邔?duì)比度、復(fù)雜花紋圖案表面的足跡；高反射材質(zhì)表面的足跡；只能傾斜觀察可見的足跡。
高信噪比：大幅度抑制客體背景信息，提高足跡圖像的信噪比。
多采集模式：根據(jù)灰塵足跡、水漬足跡、血足跡等不同情況的需求，內(nèi)置了多種采集模式，用戶只需根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)情況作出簡(jiǎn)單選擇。
全天候：內(nèi)置式照明，無論室內(nèi)、室外、白天、夜間都可工作。
無損：光學(xué)掃描成像方式，不接觸痕跡，不破壞現(xiàn)場(chǎng)。
均勻性：掃描成像，避免了常規(guī)拍攝時(shí)圖片因強(qiáng)光燈沿照明方向光照逐漸變暗而產(chǎn)生的照度不均勻性。
無畸變：光學(xué)掃描成像方式，避免手工拍攝時(shí)因鏡頭難以垂直正對(duì)痕跡表面而產(chǎn)生的傾斜畸變，確保圖像的每一處都反映痕跡的真實(shí)形狀。
自動(dòng)化：不用培訓(xùn)，無需拍攝經(jīng)驗(yàn)，只需軟件調(diào)光配光，輕輕一按，即可采集到有鑒定價(jià)值的痕跡圖像。
自帶比例尺：*解決遺忘放置比例尺，或者放置的比例尺過于短小的問題，確保得到原始尺寸。
高穩(wěn)定性：全封閉，無外界光干擾；無抖動(dòng)，不受人為因素干擾，精確獲取每一處痕跡。
降低勞動(dòng)強(qiáng)度：無需技術(shù)員低頭彎腰，揮汗如雨，四處配光，真正解放技術(shù)員的雙手，節(jié)省時(shí)間去完成現(xiàn)場(chǎng)的其他任務(wù)。
集成式一體機(jī)身，專為狹長的全尺寸足跡設(shè)計(jì)，高強(qiáng)度，耐沖擊。
技術(shù)參數(shù)：
電氣參數(shù)：
USB端口控制。
10000mAh移動(dòng)電源供電。
光源：
特制高亮度、小發(fā)散角條形單色光源。
均勻條形白光光源。
條形紅外光源。
成像參數(shù)：
成像區(qū)域尺寸：150mm×350mm。
USB/WIFI圖像數(shù)據(jù)輸出。
背景信息抑制率達(dá)到40%以上（對(duì)典型客體，如復(fù)雜花紋的大理石地磚、地板革、復(fù)合木地板、防滑瓷磚等，經(jīng)典圖像熵算法）大800萬像素圖像輸出（根據(jù)不同采集模式）。 逐行掃描成像方式，掃描精度為20μm
軟件功能：
局部動(dòng)態(tài)預(yù)覽，用來判斷配光是否合適。
全幅面快速掃描預(yù)覽，用來判斷圖片是否適用。
自動(dòng)/手動(dòng)調(diào)節(jié)曝光量等參數(shù)，防止曝光不足或過度。
多采集模式選擇，應(yīng)對(duì)大多數(shù)現(xiàn)場(chǎng)情況。包括常規(guī)模式、鏡像模式、水漬模式、血漬模式、弱背景模式1、弱背景模式2、具有激光輔助校正模式用來對(duì)小幅度起伏的客體上的足跡進(jìn)行校正。
自動(dòng)完成掃描并添加外圍比例尺。
可在圖像上提供自由拉伸和拖放的浮動(dòng)測(cè)量尺。
可在圖片上添加注釋。
觀察圖像可在原大與全景模式間自由切換。
系統(tǒng)配置（UV-F3B）：
UV-F3現(xiàn)場(chǎng)潛在足跡掃描系統(tǒng)主機(jī)一臺(tái)（伸縮型）。
內(nèi)嵌Win7/8系統(tǒng)電腦一臺(tái)。
進(jìn)口攝像頭鏡頭及掃描傳動(dòng)裝置。
內(nèi)置方向定位模塊用于確定足跡取向。
激光測(cè)距裝置一套用于測(cè)量足跡的相對(duì)位置。
10000mAh移動(dòng)電源兩套。
足跡搜索裝置一套。
足跡測(cè)量比對(duì)系統(tǒng)軟件一套
便攜式安全箱一個(gè)。
