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北京市卓川電子科技有限公司
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| 參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號WD.54-PS
品 牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地北京市
聯(lián)系方式：楊經(jīng)理查看聯(lián)系方式
更新時(shí)間：2016-03-01 11:11:35瀏覽次數(shù)：408次
聯(lián)系我時(shí)，請告知來自 智慧城市網(wǎng)直流濺射等離子體實(shí)驗(yàn)裝置裝置采用同軸二極濺射結(jié)構(gòu)，靶臺和靶距離可調(diào)節(jié)，濺射基片可進(jìn)行控溫加熱；濺射氣壓、濺射氣源流量可調(diào)節(jié)，可研究不同氣壓、氣源流量對薄膜濺射的影響；反應(yīng)腔體采用石英玻璃管，可直觀地觀察到濺射現(xiàn)象；工作氣體可調(diào)節(jié)更換，并可多路氣體混合工作。可以完成光學(xué)薄膜材料的制備及其光學(xué)特性的測量、金屬薄膜的制備等實(shí)驗(yàn)。
直流濺射等離子體實(shí)驗(yàn)裝置（設(shè)計(jì)性、綜合性實(shí)驗(yàn)）裝置包括可拆卸的濺射腔體、濺射靶臺、真空抽氣系統(tǒng)、測量系統(tǒng)、進(jìn)氣系統(tǒng)等部分組成。 本裝置采用同軸二極濺射結(jié)構(gòu)，在真空室內(nèi)以沉積材料為陰極，加工樣品為陽極，工作期間兩極間加直流電壓引起放電，放電氣體中的離子被加速轟擊靶面，濺射粒子沉積在基片表面成膜。
可開設(shè)的實(shí)驗(yàn)1、光學(xué)薄膜材料的制備及其光學(xué)特性的測量；2、金屬薄膜的制備實(shí)驗(yàn)；3、理解直流濺射原理，掌握直流濺射薄膜材料的工藝方法。
主要技術(shù)特點(diǎn)1、濺射靶臺和濺射靶距離可調(diào)節(jié)，研究在不同距離時(shí)對薄膜濺射的影響；2、濺射基片可進(jìn)行加熱，加熱溫度可控，研究基片溫度對薄膜濺射的影響；3、濺射氣壓、濺射氣源流量可調(diào)節(jié)，研究不同氣壓、氣源流量對薄膜濺射的影響；4、反應(yīng)腔體采用石英玻璃管，可直觀地觀察到濺射現(xiàn)象；5、工作氣體可調(diào)節(jié)更換，并可多路氣體混合工作。
主要技術(shù)參數(shù)1、濺射腔體外形尺寸：DHPS-1：Ф140mm×150mm； ；2、濺射靶臺：DHPS-1：Ф70×20mm； 可同時(shí)放6個(gè)樣品；3、DHPS-1：基片加熱溫度可控范圍：室溫～80℃；4、濺射氣壓可調(diào)范圍：10～200 Pa；5、濺射電壓：0～1500V連續(xù)可調(diào)，濺射電流：0～200mA可調(diào)；6、氣源流量可控范圍：6～60ml/min；25～250 ml/min；7、供電電源: AC 220V，50 Hz。
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