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上海研晶生化試劑有限公司


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經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品:200條

所在地區(qū):上海上海市

聯(lián)系人:趙誠

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Ultrasense® ECL化學(xué)發(fā)光底物試劑盒使用說明書

閱讀:2818發(fā)布時(shí)間:2011-09-21

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    上海研晶生化試劑有限公司

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產(chǎn) 品
  
規(guī) 格
試劑A
發(fā)光劑/增強(qiáng)劑溶液
25ml
試劑B
過氧化物緩沖液
25ml

組成:
 
產(chǎn)品簡(jiǎn)介:ECL化學(xué)發(fā)光底物是免疫印跡實(shí)驗(yàn)中與辣根過氧化物酶(HRP)配套使用的高靈敏度檢測(cè)試劑。本品在HRP的催化下發(fā)生化學(xué)發(fā)光反應(yīng),用于檢測(cè)固定在PVCF膜上的蛋白質(zhì)、DNA等生物大分子,能夠檢測(cè)到10-15g水平的抗;發(fā)出的光強(qiáng)度強(qiáng)烈而持久,可以用照相技術(shù)(X-光膠片曝光)、凝膠成像儀等方法顯示、檢測(cè)。
保存條件: -4℃避光保存,保質(zhì)期二年。
操作步驟:
1. 按照常規(guī)細(xì)胞破膜、提取蛋白、電泳、轉(zhuǎn)膜、HRP標(biāo)記抗體或核酸探針孵育后,充分洗滌印跡膜。
2. 根據(jù)需要量,新鮮配制發(fā)光工作液:取等體積的A 溶液B溶液混合均勻,立即使用。
3. 從洗滌液中取出印跡膜,在濾紙上瀝凈洗滌液。將膜浸入發(fā)光工作液中,并與之充分接觸。室溫孵育 2—5分鐘。
4. 從發(fā)光液中取出印跡膜,用濾紙瀝去多余的發(fā)光工作液。
5. 在 X-光膠片暗盒內(nèi)面鋪一張面積大于印跡膜的塑料保鮮膜。將雜交膜緊貼保鮮膜,去除氣泡和皺褶。
6. 在暗室內(nèi)將印跡膜壓在X-光膠片上,曝光不同的時(shí)間,如數(shù)秒到數(shù)十分鐘。顯影沖洗。
注意事項(xiàng):
1. 為獲得*實(shí)驗(yàn)結(jié)果,請(qǐng)務(wù)必優(yōu)化實(shí)驗(yàn)條件,包括檢測(cè)樣品的用量、一抗、二抗稀釋度以及雜交膜及封閉試劑的選擇;建議一抗的工作濃度為50ng/ml—1μg/ml,二抗為5ng/ml—50ng g/ml。
2.由于牛奶中含有內(nèi)源性*,在使用親和素/*系統(tǒng)時(shí),封閉液中請(qǐng)避免使用奶粉;
3.在封閉緩沖液及所有抗體稀釋液中加入高質(zhì)量的吐溫-20 (終濃度為0.05 %),以減
少非特異性結(jié)合;
4.由于疊氮鈉是HRP抑制劑,在緩沖液中避免使用疊氮鈉作為防腐劑;
5.整個(gè)免疫印跡實(shí)驗(yàn)過程請(qǐng)確保印跡膜始終處于濕潤(rùn)狀態(tài),避免干燥;
6.為獲得*實(shí)驗(yàn)效果,抗體孵育及膜洗滌步驟中請(qǐng)使用搖床輔助完成;
7.避光條件下,配制好的化學(xué)發(fā)光工作液在室溫下可穩(wěn)定8小時(shí)。陽光或其他強(qiáng)光會(huì)影響工作液的效果。為獲得*效果,可于棕色瓶中配制工作液。正常實(shí)驗(yàn)室燈光短時(shí)間照射不影響工作液的使用。
8.蛋白過量或長(zhǎng)時(shí)間曝光,將加深背景并使條帶強(qiáng)弱變化而失去線性關(guān)系。曝光不足則使條帶模糊。
9.發(fā)光工作液孵育約3分鐘后膜上的條帶發(fā)光。高豐度蛋白條帶發(fā)光較強(qiáng),在暗房中肉眼可見。低豐度蛋白條帶發(fā)光較弱,肉眼不可見,但可使X光膠片曝光。因而不能以肉眼觀察結(jié)果判斷發(fā)光時(shí)間。有時(shí)候弱帶需要曝光1—10小時(shí)。如果曝光后條帶不佳,可用洗膜緩沖液洗膜,重新孵育二抗,重新ECL發(fā)光和曝光。
10. 某些市售保鮮膜包裹印跡膜時(shí)會(huì)使熒光淬滅,應(yīng)選擇高質(zhì)量保鮮膜。
 可能出現(xiàn)的問題及解決方法:

問題
可能原因
解決方法
膠片反相(白色條帶,黑色背景)
 
 
系統(tǒng)中HRP過量
 
 
稀釋HRP標(biāo)記物至少10倍以上
膜上出現(xiàn)棕色或黃色條帶
暗室中看到強(qiáng)烈發(fā)光
發(fā)光信號(hào)持續(xù)時(shí)間過短
 
 
信號(hào)較弱或者無信號(hào)
發(fā)光反應(yīng)系統(tǒng)中HRP過多,消耗底物過快,引起信號(hào)迅速降低
稀釋HRP標(biāo)記物至少10倍以上
抗原/抗體量不夠
增加抗原/抗體使用量
蛋白轉(zhuǎn)移率低
優(yōu)化轉(zhuǎn)移系統(tǒng)
 
 
 
高背景
系統(tǒng)中HRP過量
稀釋HRP標(biāo)記物至少10倍以上
封閉不足
優(yōu)化封閉程序
封閉試劑選擇不當(dāng)
選擇另一種封閉試劑
沖洗不充分
增加沖洗時(shí)間,次數(shù)
曝光過度
減少曝光時(shí)間
抗原/抗體濃度過高
降低抗原/抗體使用濃度
 
蛋白條帶為點(diǎn)狀
蛋白轉(zhuǎn)移失敗
優(yōu)化轉(zhuǎn)移過程
膜未平衡
按照說明書處理膜
X-光膠片與膜之間有氣泡
曝光前去除所有氣泡
出現(xiàn)非特異條帶(信號(hào)維持時(shí)間較短,高背景)
系統(tǒng)中HRP過多
稀釋HRP標(biāo)記物
出現(xiàn)非特異條帶(信號(hào)維持時(shí)間正常,背景干凈)
一抗用量過多
進(jìn)一步稀釋一抗
SDS導(dǎo)致非特異結(jié)合
在實(shí)驗(yàn)過程中避免使用SDS

 

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