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純水處理設(shè)備在光電光學(xué)中的應(yīng)用

閱讀:20發(fā)布時(shí)間:2025-5-26

 隨著現(xiàn)代工業(yè)的高速發(fā)展,光電光學(xué)行業(yè)對(duì)于產(chǎn)品的質(zhì)量也在不斷提高,就清洗的水來(lái)說(shuō),為何不直接使用自來(lái)水,而還要花高價(jià)購(gòu)買純水設(shè)備呢,其實(shí)由于自來(lái)水或其它水源含一些雜質(zhì)、離子、細(xì)菌之類的對(duì)光電光學(xué)行業(yè)非常嚴(yán)重的影響。
 清洗是指清除工件表面上液體和固體的污染物,使工件表面達(dá)到一定的潔凈程度。清洗過(guò)程是清洗介質(zhì)、污染物、工件表面三者之間相互作用,是一種復(fù)雜的物理過(guò)程,清洗不僅與污染的性質(zhì)、種類、型態(tài)以及粘附程度有關(guān)。與清洗介質(zhì)的理化性質(zhì)、清洗性能、工件的材質(zhì)、表面狀態(tài)有關(guān)、還與清洗的條件如溫度、壓力以及附加的超聲振動(dòng)、機(jī)械振動(dòng)等因素有關(guān)。

、  傳統(tǒng)的清洗方式有浸式清洗、噴氣清洗、噴流清洗、刷洗、噴淋清洗、噴霧清洗、減壓清洗及高壓水射流清洗等,而超聲波純水清洗是目前國(guó)際社會(huì)的的清洗方式。清洗需用純水,如水中含有氯離子,電容器就會(huì)漏電。在晶體管、集成電路生產(chǎn)中,純水主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制,硅片氧化的水汽源,部分設(shè)備的冷卻水,配制電鍍液等。集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大。水中的堿金屬(K、Na等)會(huì)使絕緣膜耐壓不良,重金屬(Au、Ag、Cu等)會(huì)使PN結(jié)耐壓降低,Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)會(huì)使N型半導(dǎo)體特性惡化,V族元素(P、As、Sb等)會(huì)使P型半導(dǎo)體特性惡化,水中細(xì)菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20-50%)會(huì)使P型硅片上的局部區(qū)域變化為N型硅而導(dǎo)致器件性能變壞,水中的顆粒(包括細(xì)菌)如吸咐在硅片表面,就會(huì)引起電路短路或特性變差。在電子管生產(chǎn)中,電子管陰極涂甫碳酸鹽,如其中混入雜質(zhì),就會(huì)影響電子的發(fā)射,進(jìn)而影響電子管的放大性能及壽命,因此其配液要使用純水,在顯象管和陰極射線管生產(chǎn)中,其熒光屏內(nèi)壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質(zhì),是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成,其配制需用純水,如純水中含銅在8ppb以上,就會(huì)引起發(fā)光變色;含鐵在50ppb以上就會(huì)使發(fā)光變色、變暗、閃光跳躍;含其它有機(jī)物膠體、微粒、細(xì)菌等,就會(huì)降低熒光層強(qiáng)度及其與玻殼的粘附力,并會(huì)造成氣泡、條跡、漏光點(diǎn)等廢次品。

 在黑白顯象管熒光屏生產(chǎn)的12個(gè)工序中,玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗等5個(gè)工序需使用純水,每生產(chǎn)一個(gè)晶體管需用純水80kg。液晶顯示器的屏面需有純水清洗和用純水配液,如純水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質(zhì),就會(huì)使液晶顯示電路發(fā)生故障,影響液晶屏質(zhì)量,導(dǎo)致廢、次品。

 隨著純水、超純水在光電光學(xué)領(lǐng)域中的重要作用日益突出,純水水質(zhì)已成為影響光電光學(xué)器件產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)成品率及生產(chǎn)成本的重要因素之一,水質(zhì)要求也越來(lái)越高。在生產(chǎn)中,高純水主要用作純水清洗和純水配液,不同的工藝生產(chǎn)中純水的用途及對(duì)水質(zhì)的要求也不同。



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