VOCs和大氣自由基分析-質(zhì)子轉(zhuǎn)移反應(yīng)飛行時(shí)間質(zhì)譜儀PTR3-TOF
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更新時(shí)間:2024-01-04 18:49:21瀏覽次數(shù):211次
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Hiden HPR30過程氣體分析質(zhì)譜儀適用于監(jiān)測分析殘余氣體和真空工藝過程中的氣體組成及變化。
Hiden HPR30過程氣體分析質(zhì)譜儀技術(shù)參數(shù):
HPR-30真空過程氣體分析系統(tǒng)(Process Gas Analyser),適用于監(jiān)測分析殘余氣體和真空工藝過程中的氣體組成及變化。
應(yīng)用:
· CVD / PECVD / RIE / LPCVD / MOCVD
· 真空涂覆/ 等離子刻蝕
· 沉積濺射
· 污染物研究
· 基本壓力辨別
· 泄漏探測/ 實(shí)質(zhì)泄漏/脫附分析
· 除氣/烘烤/泵效能
· 反應(yīng)室/過程氣體污染物
Hiden HPR30過程氣體分析質(zhì)譜儀 特點(diǎn):
· 簡潔的桌上型,移動(dòng)推車或控制臺(tái)架結(jié)構(gòu)
· Direct re-entrant流孔板,差式泵,以達(dá)到適宜的靈敏度
· 連續(xù)取樣從10-4mbar至1mbar.
· 高靈敏度(可至5ppb),質(zhì)量數(shù)可選至1000amu
· 軟離子化技術(shù),分析復(fù)雜有機(jī)物,或表觀MS研究
· 穩(wěn)定性好(24h之上,峰高變化小于±0.5%)
· MASsoft軟件控制,或由局域網(wǎng)進(jìn)行多個(gè)系統(tǒng)控制
· 氣動(dòng)閥自動(dòng)控制;出現(xiàn)電力不足或壓力過大等不安全狀況時(shí)可啟用手動(dòng)隔離裝置
· 自動(dòng)、同時(shí)數(shù)據(jù)取得、分析,實(shí)時(shí)顯示、報(bào)警
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