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行業(yè)產(chǎn)品

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深圳市誠(chéng)峰智造有限公司


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半導(dǎo)體激光器等離子設(shè)備供應(yīng)商

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參   考   價(jià): 10000

訂  貨  量: ≥1 臺(tái)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)CRF-APO-500W-XN

品       牌

廠(chǎng)商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地深圳市

聯(lián)系方式:黃先生查看聯(lián)系方式

更新時(shí)間:2021-05-11 10:08:35瀏覽次數(shù):482次

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經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)廠(chǎng)家

商鋪產(chǎn)品:38條

所在地區(qū):廣東深圳市

聯(lián)系人:黃先生 (經(jīng)理)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介
全自動(dòng)On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-50 100    

產(chǎn)品特點(diǎn): 內(nèi)置式冷卻系統(tǒng),提高和保證設(shè)備的使用壽命和性能;

靈活On-Line安裝方式,電子和離子的能量可達(dá)10eV以上,

材料批處理的效率可高于低氣壓輝光放電裝置效率10倍以上。

詳細(xì)介紹

全自動(dòng)On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-500W-XN

名稱(chēng)(Name)

全自動(dòng)On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)

型號(hào)(Model)

CRF-APO-500W-XN

電源(Power supply)

380V/AC,50/60Hz

等離子功率(Plasma power)

10KW(Max)/40KHz(Option)

有效處理寬幅(Processing width)

120mm-1200mm(Option)

有效處理高度(Processing   height)

3mm~8mm(Max)

處理速度(Processing speed)

0-8m/min

工作氣體(Gas)

N2/N2+CDA

產(chǎn)品特點(diǎn): 內(nèi)置式冷卻系統(tǒng),提高和保證設(shè)備的使用壽命和性能;

靈活On-Line安裝方式,電子和離子的能量可達(dá)10eV以上,

材料批處理的效率可高于低氣壓輝光放電裝置效率10倍以上。

應(yīng)用范圍:應(yīng)用于FPC&PCB表面處理,復(fù)合型材料,玻璃,ITO等行業(yè)領(lǐng)域的表面處理。
 

芯片引線(xiàn)框架優(yōu)化引線(xiàn)等使用等離子表面處理都有哪些顯著的特性呢


等離子噴涂設(shè)備是一種材料表面的強(qiáng)化和表面改性的技術(shù),這種技術(shù)目前應(yīng)用于很多的行業(yè),可以使材料的表面更加的耐磨,抗高溫,耐腐蝕等作用。它的工作原理的形成是使用直流驅(qū)動(dòng)的等離子弧為熱源,將金屬等材料加熱熔解或半熔解的狀態(tài),以高速的噴向物件的表面,形成牢固的表面層。那么我們工業(yè)應(yīng)用中的等離子設(shè)備它的工作原理是怎樣形成的呢?等離子設(shè)備是由等離子發(fā)生器和氣體的輸送管道還有等離子噴頭組合而成的。它的工作原理是:等離子發(fā)生器產(chǎn)生的高壓能量在噴嘴的鋼管里面被激(活)和被控制后產(chǎn)生了等離子體,通過(guò)等離子處理后的物體表面會(huì)有物理和化學(xué)等多種變化,同時(shí)還可以清潔其表面的灰塵,雜質(zhì),以及其他的有(機(jī))物等等。達(dá)到表面改性,表面活(化),改善性能等作用。在噴涂,電子行業(yè)有著的成績(jī)。
?等離子設(shè)備領(lǐng)域的有關(guān)的行業(yè)人士都知道,等離子設(shè)備廣泛的被應(yīng)用在像半導(dǎo)體,生物,醫(yī)療,還有光學(xué),平板顯示,等工業(yè)上面,它是利用一些活性的組分來(lái)處理樣品的表層,達(dá)到清潔,清洗,改性等作用。真空等離子設(shè)備應(yīng)用在半導(dǎo)體行業(yè)已經(jīng)有一定的基礎(chǔ)了,是因?yàn)樵谥瞥踢^(guò)程中在灌裝的時(shí)候出現(xiàn)了一些像氧化,潮濕等一系列的問(wèn)題,所以L(fǎng)ED行業(yè)人士想到了利用真空等離子設(shè)備清洗達(dá)到良好的密封性,減少電流的泄露,提供良好的邦定性能等作用。另外在利用真空等離子設(shè)備處理過(guò)后的電子產(chǎn)品還可以達(dá)到提高表面能,心跡其親水性,改善附著力等作用。半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用真空等離子設(shè)備技術(shù)已經(jīng)被很多工業(yè)產(chǎn)品生產(chǎn)廠(chǎng)家所熟知,相信在電子行業(yè)也將會(huì)大受歡迎和推崇,這就是真空等離子設(shè)備的運(yùn)用,目前國(guó)內(nèi)已經(jīng)有很多半導(dǎo)體廠(chǎng)家在使用這項(xiàng)技術(shù)來(lái)處理材料,例如:
芯片粘接前處理
芯片或者硅片與封裝基板的粘接,往往是兩種不同性質(zhì)的材料,材料表面通常呈現(xiàn)為疏水性和隋性特征,其表面粘接性能較差,粘接過(guò)程中界面容易產(chǎn) 生空隙,給密封封裝后的芯片或硅片帶來(lái)很大的隱患,硅片清洗機(jī)工業(yè)等離子清洗機(jī)可以對(duì)芯片與封裝基板的表面進(jìn)行等離子體處理能有效增加其表面活性,等離子處理機(jī)極大的改善粘接環(huán)氧樹(shù)脂在其表面的流動(dòng)性,提高芯片和封裝基板的粘結(jié)浸潤(rùn)性,減少芯片與基板的分層,改善熱傳導(dǎo)能力,提高IC封裝的可靠性穩(wěn)定性,增加產(chǎn)品的壽命。
引線(xiàn)框架的表面處理
微電子封裝領(lǐng)域采用引線(xiàn)框架的塑封形式,仍占到80%,其主要采用導(dǎo)熱性、導(dǎo)電性、加工性能良好的銅合金材料作為引線(xiàn)框架銅的氧化物與其它一些有(機(jī))污染物會(huì)造成密封模塑與銅引線(xiàn)框架的分層,造成封裝后密封性能變差與慢性滲氣現(xiàn)象,同時(shí)也會(huì)影響芯片的粘接和引線(xiàn)鍵合質(zhì)量 ,確保引線(xiàn)框架的潔凈是保證封裝可靠性與良率的關(guān)鍵,經(jīng)等工業(yè)離子處理機(jī)清洗后引線(xiàn)框架表面凈化和活(化)的效(果)成品良率比傳統(tǒng)的濕法清洗會(huì)極大的提高,并且免除了廢水排放,降(低)化學(xué)藥水采購(gòu)成本。
優(yōu)化引線(xiàn)鍵合(打線(xiàn))
集成電路引線(xiàn)鍵臺(tái)的質(zhì)量對(duì)微電子器件的可靠陛有決定性影響,鍵合區(qū)必須無(wú)污染物并具有良好的鍵合特性。污染物的存在,如氯化物、有(機(jī))殘?jiān)榷紩?huì)嚴(yán)重削弱引線(xiàn)鍵臺(tái)的拉力值。傳統(tǒng)的工業(yè)清洗機(jī)濕法清洗對(duì)鍵合區(qū)的污染物去除不*或者不能去除,而采用等離子體廠(chǎng)家設(shè)備清洗能有效去除鍵合區(qū)的表面沾污并使其表面活(化),能明(顯)提高引線(xiàn)的鍵合拉力,極大的提高封裝器件的可靠性。
等離子體清洗的機(jī)理,主要是依靠等離子體中活性粒子的“活(化)作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機(jī)理來(lái)看,等離子體清洗通常包括以下過(guò)程:無(wú)機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。
等離子體清洗技術(shù)的特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類(lèi)型,均可進(jìn)行處理,對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚致聚四氟乙烯等都能很好地處理,并可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。相信在今后品質(zhì)要求越來(lái)越高的情況下,等離子設(shè)備技術(shù)會(huì)越來(lái)越受行業(yè)人士的青睞和信賴(lài)。


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